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[비즈톡톡] 中, DUV 기술 자립 성공했지만… 14나노 이하 공정은 여전히 ‘벽’ - 조선비즈 - Chosunbiz
AI 요약
중국이 노광 장비 국산화에 성공하며 반도체 기술 자립에 한 걸음 다가섰지만, 14나노(nm) 이하의 미세 공정에서는 여전히 기술적 한계에 직면해 있습니다. 중국은 자체 개발한 DUV(심자외선) 노광 장비를 통해 28나노 공정까지는 양산 능력을 확보한 것으로 평가됩니다. 이는 과거 ASML 등 해외 기업에 대한 높은 의존도를 낮추고 반도체 공급망 안정화에 기여할 수 있는 긍정적인 신호입니다.
하지만 14나노 ...